據國外媒體報道，光刻機巨頭荷蘭阿斯麥(ASML)首席財務官近日在財報視頻會議上表示，向中國客戶出口DUV光刻機已經無需申請出口許可證。由于光刻機的稀缺性和高工藝要求，近年來A股關于光刻機題材的炒作升溫。
據國外媒體報道，光刻機巨頭荷蘭阿斯麥(ASML)首席財務官近日在財報視頻會議上表示，向中國客戶出口DUV光刻機已經無需申請出口許可證。由于光刻機的稀缺性和高工藝要求，近年來A股關于光刻機題材的炒作升溫。據不完全統計，目前A股光刻機概念股44只，但都是部分業務涉及到光刻機領域。
二級市場表現來看，今年以來已有11只光刻機概念股漲幅翻倍，不過與年內高點相比，光刻機概念股整體回調力度不小。據統計，11股最新收盤價較年內高點回調30%以上。
光刻機又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。鍍膜光刻機是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統在適當工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。
根據中研普華產業研究院出版的《2020-2025年中國光刻機市場發展現狀調查及供需格局分析預測報告》分析顯示：
主要的光刻機生產廠家包括：ASML、尼康、佳能、歐泰克、上海微電子裝備、SUSS、ABM Inc.等。
高端的投影式光刻機可分為步進投影和掃描投影光刻機兩種，分辨率通常七納米至幾微米之間，高端光刻機號稱世界上最精密的儀器，世界上已有1.2億美金一臺的光刻機。高端光刻機堪稱現代光學工業之花，其制造難度之大，全世界只有少數幾家公司能夠制造。國外品牌主要以荷蘭ASML(鏡頭來自德國)，日本Nikon(intel曾經購買過Nikon的高端光刻機)和日本Canon三大品牌為主。位于我國上海的SMEE已研制出具有自主知識產權的投影式中端光刻機，形成產品系列初步實現海內外銷售。正在進行其他各系列產品的研發制作工作。
生產線和研發用的低端光刻機為接近、接觸式光刻機，分辨率通常在數微米以上。2018年11月29日，國家重大科研裝備研制項目"超分辨光刻裝備研制"通過驗收。該光刻機由中國科學院光電技術研究所研制，光刻分辨力達到22納米，結合雙重曝光技術后，未來還可用于制造10納米級別的芯片。
隨著光刻機行業競爭的不斷加劇，大型企業間并購整合與資本運作日趨頻繁，國內外優秀的光刻機企業愈來愈重視對行業市場的分析研究，特別是對當前市場環境和客戶需求趨勢變化的深入研究，以期提前占領市場，取得先發優勢。中研普華利用多種獨創的信息處理技術，對光刻機行業市場海量的數據進行采集、整理、加工、分析、傳遞，最大限度地降低客戶投資風險與經營成本，把握投資機遇，提高企業競爭力。
欲了解關于光刻機行業具體詳情可以點擊查看中研普華研究報告《2020-2025年中國光刻機市場發展現狀調查及供需格局分析預測報告》。
2020-2025年中國大硅片市場發展現狀調查及供需格局分析預測報告
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