掩膜版，又稱光罩、光掩膜、光刻掩膜版、掩模版等，是下游行業產品制造過程中的圖形“底片”轉移用的高精密工具，是承載圖形設計和工藝技術等知識產權信息的載體。
掩膜版，又稱光罩、光掩膜、光刻掩膜版、掩模版等，是下游行業產品制造過程中的圖形“底片”轉移用的高精密工具，是承載圖形設計和工藝技術等知識產權信息的載體。
掩膜上承載著設計圖形，光源投過掩膜并將圖形投影在光刻膠智商。因此掩膜性能直接決定了光刻工藝的質量。目前制程制程用較為常用的工藝為投影式光刻，掩膜不直接與晶圓表面接觸。
據中研產業研究院報告《2021-2025年中國掩膜版行業發展趨勢及投資預測報告》分析
近年來，全球光掩膜版市場發展態勢較好，行業規模持續擴大，2019年，全球光掩膜版市場規模達到40億美元左右，受新冠肺炎疫情的影響，2020年，全球光掩膜版市場規模有所縮減。全球市場中，光掩膜版市場參與者主要集中在美國、日本、韓國等國家中，其中市場占比較高的企業有日本東曹、HOYA、韓國LGMicron、DNP、信越化學、尼康、SKE等。
電子信息產業是我國國民經濟和社會發展的戰略性、基礎性、先導性產業，而掩膜版行業則是電子信息產業不可缺少的重要組成部分。從產業鏈來看，掩膜版產業位于電子信息產業的上游，其主導產品掩膜版是下游電子元器件制造商(平板顯示、半導體芯片、觸控和電路板等行業)生產制造過程中的核心模具，起到橋梁和紐帶的作用，電子元器件制造商的產品則廣泛應用于消費電子、家電、汽車等電子產品領域。因此，掩膜版行業的發展與其下游電子元器件行業乃至終端電子消費品行業的發展密切相關。下游行業市場規模的不斷增長也為本行業提供了更為廣闊的市場空間。
隨著消費者對顯示產品的要求逐步提高，手機、平板電腦等移動終端向著更高清、色彩度更飽和、更輕薄化發展。預計未來顯示屏的顯示精度將從450PPI(Pixel Per Inch，即每英寸像素)逐步提高到650PPI以上，對平板顯示掩膜版的半導體層、光刻分辨率、最小過孔、CD均勻性、套合精度、缺陷大小、潔凈度均提出了更高的技術要求。未來集成電路的制造工藝將進一步精細化，朝5nm-3nm工藝發展，這對與之配套的掩膜版以及半導體芯片封裝用掩膜版提出了更高要求，線縫精度要求越來越高。
光掩膜版在可穿戴設備、平板顯示、汽車電子、家電等領域應用廣泛，近年來，隨著下游市場需求不斷釋放，光掩膜版行業發展持續向好。我國光掩膜版行業起步較晚，高端產品產能不足，因此目前我國光掩膜版市場仍由外資企業占據主導，未來我國光掩膜版行業發展空間廣闊。
想要了解更多掩膜版行業的發展前景，請查閱《2021-2025年中國掩膜版行業發展趨勢及投資預測報告》。
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