當前半導體分立器件產業正在發生深刻的變革,其中新材料成為產業新的發展重心。以碳化硅(SiC)、氮化鎵(GaN)等材料為代表的新材料半導體因其寬禁帶、高飽和漂移速度、高臨界擊穿電場等優異的性能而受到行業關注,有望成為新型的半導體材料。
半導體分立器件是電力電子產品的基礎之一,也是構成電力電子變化裝置的核心器件之一,主要用于電力電子設備的整流、穩壓、開關、混頻等,具有應用范圍廣、用量大等特點,在消費電子、汽車電子、電子儀器儀表、工業及自動控制、計算機及周邊設備、網絡通訊等眾多國民經濟領域均有廣泛的應用。
當前半導體分立器件產業正在發生深刻的變革,其中新材料成為產業新的發展重心。以碳化硅(SiC)、氮化鎵(GaN)等材料為代表的新材料半導體因其寬禁帶、高飽和漂移速度、高臨界擊穿電場等優異的性能而受到行業關注,有望成為新型的半導體材料。SiC、GaN等半導體材料屬于新興領域,具有極強的應用戰略性和前瞻性。目前美歐、日韓及臺灣等地區已經實現SiC、GaN等新材料半導體功率器件的量產。新材料半導體的涌現將不斷提升半導體器件的性能,使得產品能夠滿足更多應用領域的需求。
對國內市場而言,功率二極管、功率三極管、晶閘管等分立器件產品大部分已實現國產化,而MOSFET、IGBT等分立器件產品,尤其是高功率器件,由于其技術及工藝的先進性,還較大程度上依賴進口,未來進口替代空間巨大。目前,國內行業內企業通過多年的技術和資本積累,依托國家產業政策的重點扶持,也已開始布局新型半導體材料領域,并取得了一定成效。
據中研產業研究院報告《半導體分立器件項目商業計劃書(2021年版)》分析
國內現狀就是低端產品居多,高端產品還是被國際玩家壟斷,揚杰科技歷來非常注重研發,研發人員、研發費用逐年提高,戰略布局Mosfet及第三代半導體。Mosfet是高端半導體分立器件的一種,利潤率明顯高于目前公司的產品。第三代半導體主要是以碳化硅 (SiC)、氮化鎵(GaN)為代表,即寬禁帶半導體材料。第三代半導體材料具有高熱導率、高擊穿場強、高飽和電子漂移速率和高鍵合能等優點,可以滿足現代電子技術對高溫、高功率、高壓、高頻以及抗輻射等惡劣條件的新要求,是半導體材料領域最有前景的材料。
進口替代效應將顯著增加
近年來,我國半導體分立器件行業的產銷規模不斷擴大,對國外產品的進口替代效應不斷凸顯。未來,隨著國內半導體分立器件行業逐步突破高端產品的技術瓶頸,國內優秀企業將憑借地緣、技術和成本等方面的優勢獲得更多的發展機會,我國半導體分立器件對進口的依賴將會進一步減弱,進口替代效應將顯著增加。軍工半導體分立器件產業長期推行國產化和自主可控,經過長期積累,已形成較為成熟的生產工藝和產業體系,國產化程度較高,尤其在高可靠產品領域具有明顯優勢,民用市場為半導體分立器件軍民兩用技術提供了廣闊的發空間,相關軍工企業有望充分受益于民用市場的拓展。
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半導體分立器件項目商業計劃書(2021年版)
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