掩膜版市場(chǎng)前景及現(xiàn)狀分析 未來(lái)掩膜版行業(yè)調(diào)研預(yù)測(cè)

• 劉明月 2023年9月21日 來(lái)源：中研研究院 839 51
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隨著現(xiàn)代電子技術(shù)的快速發(fā)展,掩膜版在半導(dǎo)體、PCB、LCD和LED等電子制造行業(yè)中的應(yīng)用日益廣泛。到2030年國(guó)內(nèi)空白掩膜版需求規(guī)模有望達(dá)到11.5億美元規(guī)模，而空白掩膜版自給規(guī)模有望達(dá)到7.12億美元(45億人民幣)。

國(guó)內(nèi)第一張大面積高精度絡(luò)版掩膜版研發(fā)生產(chǎn)以來(lái)，我國(guó)掩膜版產(chǎn)業(yè)得到不斷發(fā)展，先后經(jīng)歷了萌芽階段、快速發(fā)展階段以及高質(zhì)量發(fā)展階段。

隨著現(xiàn)代電子技術(shù)的快速發(fā)展,掩膜版在半導(dǎo)體、PCB、LCD和LED等電子制造行業(yè)中的應(yīng)用日益廣泛。到2030年國(guó)內(nèi)空白掩膜版需求規(guī)模有望達(dá)到11.5億美元規(guī)模，而空白掩膜版自給規(guī)模有望達(dá)到7.12億美元(45億人民幣)。

掩膜版應(yīng)用十分廣泛，在涉及光刻工藝的領(lǐng)域都需要使用掩膜版，如IC(Integrated Circuit，集成電路)、FPD(Flat Panel Display，平板顯示器)、PCB(Printed Circuit Boards，印刷電路板)、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems，微機(jī)電系統(tǒng))等。

掩膜版是什么?有什么用?光刻掩膜版(又稱光罩，英文為Mask Reticle)，簡(jiǎn)稱掩膜版，是微納加工技術(shù)常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結(jié)構(gòu)，再通過(guò)曝光過(guò)程將圖形信息轉(zhuǎn)移到產(chǎn)品基片上。

掩膜版產(chǎn)業(yè)項(xiàng)目：落地蘇州工業(yè)園區(qū)

蘇州市委市政府召開(kāi)推進(jìn)大會(huì)。會(huì)上，路芯半導(dǎo)體掩膜版研發(fā)及產(chǎn)業(yè)化基地簽約落地蘇州工業(yè)園區(qū)。

據(jù)了解，該項(xiàng)目預(yù)計(jì)總投資人民幣20億元，項(xiàng)目公司將依托路維光電在掩膜版領(lǐng)域的技術(shù)基礎(chǔ)，深耕半導(dǎo)體掩膜版領(lǐng)域，建設(shè)130nm-28nm制程節(jié)點(diǎn)的半導(dǎo)體掩膜版產(chǎn)線。

公開(kāi)資料顯示，江蘇路芯半導(dǎo)體技術(shù)有限公司是一家半導(dǎo)體掩膜版研發(fā)生產(chǎn)商，主要從事半導(dǎo)體掩膜版等相關(guān)半導(dǎo)體器件的研發(fā)生產(chǎn)業(yè)務(wù)。建設(shè)有130nm-28nm制程節(jié)點(diǎn)的半導(dǎo)體掩膜版產(chǎn)線。

中研研究院出版的《2023-2028年中國(guó)掩膜版行業(yè)發(fā)展趨勢(shì)及投資預(yù)測(cè)報(bào)告》顯示

掩膜版市場(chǎng)前景及現(xiàn)狀分析 未來(lái)掩膜版行業(yè)調(diào)研預(yù)測(cè)

掩膜版是微電子生產(chǎn)制造過(guò)程中的關(guān)鍵材料，其精度和質(zhì)量水平會(huì)直接影響下游制品。石英掩膜基板使用石英玻璃作為基板材料，是因?yàn)楣鈱W(xué)透過(guò)率高，熱膨脹率低，相比蘇打玻璃更為平整和耐磨，使用壽命長(zhǎng)，主要用于高精度掩膜基版。

掩膜版是光刻過(guò)程中的核心耗材，從細(xì)分領(lǐng)域看，半導(dǎo)體掩膜版占比約12%，與電子特氣占比相當(dāng)。掩膜版按用途分類可分為四種，分別為鉻版、干版、液體凸版和菲林。其中，鉻版精度最高，耐用性更好，廣泛應(yīng)用于平板顯示、IC、印刷線路板和精細(xì)電子元器件行業(yè);干版、液體凸版和菲林主要用于中低精度LCD行業(yè)、PCB及IC載板等行業(yè)。

通過(guò)光刻，將掩膜版上的設(shè)計(jì)圖形轉(zhuǎn)移到光刻膠上，再經(jīng)過(guò)刻蝕，將圖形刻到襯底上，從而實(shí)現(xiàn)圖形到硅片的轉(zhuǎn)移，功能類似于傳統(tǒng)照相機(jī)的“底片”。

從半導(dǎo)體掩膜版龍頭廠photronics銷售表現(xiàn)來(lái)看，與下游半導(dǎo)體銷售相比，在半導(dǎo)體景氣下行周期內(nèi)，掩膜版的營(yíng)收增速下滑幅度相對(duì)較小，體現(xiàn)出一定的抗周期性;同時(shí)photronics掩膜版業(yè)務(wù)在部分周期內(nèi)表現(xiàn)出一定的領(lǐng)先性，較下游半導(dǎo)體銷售率先達(dá)到景氣拐點(diǎn)。

2020 年受新冠疫情影響同比下降 6.9%，但FPD掩膜版市場(chǎng)自 2020 下半年開(kāi)始逐漸回暖，2021年預(yù)計(jì)增長(zhǎng)至 60 億元。中國(guó)約占比 52%，復(fù)合增速 20%。

近些年隨著國(guó)家的投入以及日韓廠商的退出，以京東方、TCL 為首的中國(guó)企業(yè)以高增速搶占全球市場(chǎng)份額。中國(guó)也成為了全球光電顯示行業(yè)的中心。受益于下游產(chǎn)業(yè)的高速發(fā)展，中國(guó) FPD掩膜版的需求占全球的52%。

掩膜版市場(chǎng)供應(yīng)廠商包括日本東曹，日本信越化學(xué)、日本尼康和菲利華等;2.中游為掩膜版制造行業(yè)，主要企業(yè)包括日本HOYA，日本 DNP，韓國(guó) LG-IT、日本 SKE 和清溢光電;3.下游主要包括 IC 制造、IC 封裝、平面顯示和印制線路板等行業(yè)，廣泛應(yīng)用于消費(fèi)電子、家電、汽車等電子產(chǎn)品領(lǐng)域，主要客戶為半導(dǎo)體廠商英特爾、三星、臺(tái)積電等以及顯示屏廠商京東方、華星光電等。

全球半導(dǎo)體光掩膜市場(chǎng)規(guī)模為 46.87 億美元，預(yù)計(jì)在預(yù)測(cè)期內(nèi)以6.11%的復(fù)合年增長(zhǎng)率增長(zhǎng)，到2027年掩膜版市場(chǎng)規(guī)模達(dá)到 66.9128 億美元。

半導(dǎo)體掩膜版為掩膜版市場(chǎng)主流產(chǎn)品,占比達(dá)到近六成。與平板顯示掩膜版相比,半導(dǎo)體掩膜版生產(chǎn)難度較大,海外企業(yè)占據(jù)我國(guó)市場(chǎng)主導(dǎo)地位。

目前制程制程用較為常用的工藝為投影式光刻，掩膜不直接與晶圓表面接觸。掩膜版應(yīng)用十分廣泛，在涉及光刻工藝的領(lǐng)域都需要使用掩膜版，如IC(Integrated Circuit，集成電路)、FPD(Flat Panel Display，平板顯示器)、PCB(Printed Circuit Boards，印刷電路板)、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems，微機(jī)電系統(tǒng))等。

2022年我國(guó)平板顯示(FPD)掩膜版市場(chǎng)規(guī)模約為35億元;半導(dǎo)體掩膜版市場(chǎng)規(guī)模約為74億元，預(yù)計(jì)到2025年將增長(zhǎng)至約100億元。

半導(dǎo)體光掩膜版國(guó)產(chǎn)化率僅5%。目前國(guó)產(chǎn)廠商量產(chǎn)產(chǎn)品制程主要為180nm及以上，150nm以下制程掩膜版幾乎空白，國(guó)產(chǎn)替代空間廣闊。

2023年IC領(lǐng)域掩膜版國(guó)外CR3(82%)，從制程上看，130nm以上、28-90nm、28nm以下的掩膜版分別占比54%，33%和13%。

掩膜版行業(yè)研究報(bào)告可以幫助投資者合理分析行業(yè)的市場(chǎng)現(xiàn)狀，為投資者進(jìn)行投資作出掩膜版行業(yè)前景預(yù)判，挖掘投資價(jià)值，同時(shí)提出行業(yè)投資策略和營(yíng)銷策略等方面的建議。

掩膜版行業(yè)報(bào)告包含大量的數(shù)據(jù)、深入分析、專業(yè)方法和價(jià)值洞察，可以幫助您更好地了解行業(yè)的趨勢(shì)、風(fēng)險(xiǎn)和機(jī)遇。在未來(lái)掩膜版市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)中擁有正確的洞察力，就有可能在適當(dāng)?shù)臅r(shí)間和地點(diǎn)獲得領(lǐng)先優(yōu)勢(shì)。

未來(lái)該行業(yè)潛力極大，更多掩膜版行業(yè)發(fā)展趨勢(shì)，請(qǐng)點(diǎn)擊中研研究院出版的《2023-2028年中國(guó)掩膜版行業(yè)發(fā)展趨勢(shì)及投資預(yù)測(cè)報(bào)告》。

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