真空鍍膜是表面處理技術的一項分支,是指為了減少雜質的干擾,在高度真空環境下,通過物理或化學手段,將金屬、非金屬或化合物材料(膜材)轉換成氣態或等離子態,并沉積于玻璃、金屬、陶瓷、塑料或有機材料等固體材質(簡稱基材、基板或基片)表面形成薄膜的過程。
真空鍍膜是表面處理技術的一項分支,是指為了減少雜質的干擾,在高度真空環境下,通過物理或化學手段,將金屬、非金屬或化合物材料(膜材)轉換成氣態或等離子態,并沉積于玻璃、金屬、陶瓷、塑料或有機材料等固體材質(簡稱基材、基板或基片)表面形成薄膜的過程。利用真空鍍膜技術鍍制薄膜后,可使材料表面獲得新的復合性能并實現新型的工程應用,賦予材料表面新的機械功能、裝飾功能和聲、電、光、磁及其轉換等特殊功能(例如防輻射、增減透光、導電或絕緣、導磁、抗氧化、耐磨損耐高溫耐腐蝕等),從而改善產品原有性能、提高產品質量、延長產品壽命等。和傳統鍍膜方法(如電鍍、化學鍍膜)相比,真空鍍膜使用的鍍膜材料種類更豐富、膜層厚度更易控制、附著力更強、適用范圍更廣,在操作過程中更加節能、安全、環保。
真空鍍膜技術與傳統的電鍍、熱浸鍍技術相比較,主要有三大優勢:一是不影響被鍍材料的質量,在加熱鍍膜材料時,不需要過高溫度,因此不會出現被鍍材料在幾何尺寸上發生變形或降低材質性能等現象;二是可以較大范圍內自由選擇鍍膜材料,更容易在組成和構造上對膜材進行控制;三是鍍膜過程與電鍍、熱浸鍍技術相比,對周圍環境影響更小。發行人產品主要為PVD真空鍍膜設備,涵蓋了真空蒸發鍍膜、真空磁控濺射鍍膜和真空離子鍍膜三種主流技術,可實現上述一種或多種技術組合,且長期致力于柔性卷繞鍍膜設備和連續鍍膜生產線的研發和銷售,用以滿足客戶定制化的鍍膜需求。三類真空鍍膜技術介紹及圖示如下:
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