光刻機10億一臺仍供不應求 光刻機市場發展現狀分析

• 2021年10月7日 ZhouXun來源：互聯網 828 50
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據悉，ASML 2017年推出EUV(極紫外光刻機)，目前是該領域唯一的玩家，當前EUV光刻機均價在1.5億美元一臺(約合9.66億元人民幣)，這臺復雜的設備有著超10萬個零部件和400多米長的線纜。

光刻機10億一臺仍供不應求

本周，光刻機一哥ASML(荷蘭阿斯麥)在在線投資者活動中上調了業績預期。公司預計2025年的營收將達到240億到300億歐元，2025年的毛利率在54~56%，今后十年(2020~2030)年化增長率11%?？勺鰠⒖嫉氖?，2020年ASML營收為140億歐元，毛利率48.6%，共賣出256臺光刻機系統產品。

ASML方面表示，半導體行業需求的高速增長使得自己的產品頗受市場歡迎。據悉，ASML 2017年推出EUV(極紫外光刻機)，目前是該領域唯一的玩家，當前EUV光刻機均價在1.5億美元一臺(約合9.66億元人民幣)，這臺復雜的設備有著超10萬個零部件和400多米長的線纜。根據中研普華產業研究院發布的《2020-2025年中國光刻機市場發展現狀調查及供需格局分析預測報告》顯示：

光刻機市場發展現狀分析

目前，主要的光刻機生產廠家包括：ASML、尼康、佳能、歐泰克、上海微電子裝備、SUSS、ABM Inc.等。

高端的投影式光刻機可分為步進投影和掃描投影光刻機兩種，分辨率通常七納米至幾微米之間，高端光刻機號稱世界上最精密的儀器，世界上已有1.2億美金一臺的光刻機。高端光刻機堪稱現代光學工業之花，其制造難度之大，全世界只有少數幾家公司能夠制造。國外品牌主要以荷蘭ASML(鏡頭來自德國)，日本Nikon(intel曾經購買過Nikon的高端光刻機)和日本Canon三大品牌為主。位于我國上海的SMEE已研制出具有自主知識產權的投影式中端光刻機，形成產品系列初步實現海內外銷售。正在進行其他各系列產品的研發制作工作。

生產線和研發用的低端光刻機為接近、接觸式光刻機，分辨率通常在數微米以上。2018年11月29日，國家重大科研裝備研制項目"超分辨光刻裝備研制"通過驗收。該光刻機由中國科學院光電技術研究所研制，光刻分辨力達到22納米，結合雙重曝光技術后，未來還可用于制造10納米級別的芯片。

隨著光刻機行業競爭的不斷加劇，大型企業間并購整合與資本運作日趨頻繁，國內外優秀的光刻機企業愈來愈重視對行業市場的分析研究，特別是對當前市場環境和客戶需求趨勢變化的深入研究，以期提前占領市場，取得先發優勢。中研普華利用多種獨創的信息處理技術，對光刻機行業市場海量的數據進行采集、整理、加工、分析、傳遞，最大限度地降低客戶投資風險與經營成本，把握投資機遇，提高企業競爭力。

更多行業調研分析，可點擊查閱中研普華研究報告《2020-2025年中國光刻機市場發展現狀調查及供需格局分析預測報告》。

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