光刻機行業現狀分析以及行業前景分析

• 2021年12月6日 ZhouJiaLiang來源：互聯網 397 19
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光刻機是芯片制造的核心設備之一，廣義的光刻機包括用于生產芯片的光刻機、用于封裝的光刻機、用于LED制造領域的投影光刻機。光刻機被業界譽為集成電路產業皇冠上的明珠，研發的技術門檻和資金門檻非常高。目前是中國在半導體設備制造上的最大短板。

光刻機是芯片制造的核心設備之一，廣義的光刻機包括用于生產芯片的光刻機、用于封裝的光刻機、用于LED制造領域的投影光刻機。光刻機被業界譽為集成電路產業皇冠上的明珠，研發的技術門檻和資金門檻非常高。目前是中國在半導體設備制造上的最大短板。

光刻機分為三類：一是主要用于生產芯片的光刻機;二是用于封裝的光刻機;三是用于LED制造領域的投影光刻機。其中用于生產芯片的光刻機涉及眾多世界先進技術，中國光刻機與國外頂尖光刻機存在的差距比較明顯。

據中研產業研究院報告《2022版光刻機項目可行性專項研究及投資價值咨詢報告》分析

數據顯示，2019年全球IC前道光刻機銷售數量為359臺，其中主要為I-line光刻機、KrF光刻機和ArFi光刻機;2009年至2019年光刻機銷售數量復合增長率為9.57%。隨著IC制程不斷向前推進，IC元件將更加復雜，平均所需的曝光層數不斷增多，這將驅動光刻機需求的增長。未來EUV光刻機將主要應用在關鍵層曝光，銷售量占比將有望提升;ArFi光刻機將主要應用在次關鍵層曝光，KrF和ArF光刻機則將主要應用在非關鍵層曝光，銷售量將保持相對穩定;而I-line光刻機在存儲芯片的非關鍵層曝光中還有廣泛的應用，但在28nm以下節點的邏輯芯片非關鍵層曝光中的應用則將逐漸減少。

光刻機行業現狀分析

從政策環境上來看，我國對于光刻機行業較為重視。其主要表現在對于整個IC產業鏈企業的政策優待以及對于半導體設備行業的相關規劃與推動。其主要表現在資金方面的補助和人才方面的培養，以及進出口，投融資方面的政策扶持。

在各項政策中較為突出的是《極大規模集成電路制造裝備及成套工藝》項目(02專項)，其以專項的形式組織了一批國內光刻機企業進行了一系列重點工藝和技術的攻關，有效促進了我國光刻機行業的發展。

ASML、佳能以及尼康是光刻機主要供應商,其中ASML在高端市場一家獨大并且壟斷EUV光刻機。從光刻機總體出貨量來看(含非IC前道光刻機),目前全球光刻機出貨量99%集中在ASML,尼康和佳能。其中ASML份額最高,達到67.3%,且壟斷了高端EUV光刻機市場。ASML技術先進離不開高投入,其研發費用率始終維持在15%-20%,遠高于Nikon和Canon。

目前，中芯國際是全球領先的集成電路晶圓代工企業之一，中國大陸技術最先進、規模最大、配套服務最完善的專業晶圓代工企業，中芯國際推出中國最先進24納米NAND、40納米高性能圖像傳感器等特色工藝，是國內第一家實現14納米FinFET量產的晶圓代工企業，代表中國大陸自主研發集成電路制造技術的最先進水平。

上海微電子裝備(集團)股份有限公司(簡稱SMEE)成立于2002年，主要致力于半導體裝備、泛半導體裝備、高端智能裝備的開發、設計、制造、銷售及技術服務。公司設備廣泛應用于集成電路前道、先進封裝、FPD面板、MEMS、LED、PowerDevices等制造領域。官方公告將在2021-2022年交付第一臺28nm制程工藝中國沉浸式光刻機，中國光刻機將從90nm一舉突破28nm工藝。

近年來，隨著國家加大半導體領域的投入，我國半導體設備采購額逐年增加。2018年中國大陸半導體設備市場規模達131.10億美元，同比增長59.30%，高于全球半導體設備市場規模同比增長率13.97%，中國大陸成為半導體設備市場規模增長最快的地區。此外，隨著中國大陸晶圓產能的建設和擴產，中國將成為全球晶圓產能增長的重心，這將帶動國產半導體設備的需求增長，為國產光刻機的發展提供了良好的機遇。

想要了解更多光刻機行業的發展前景，請查閱《2022版光刻機項目可行性專項研究及投資價值咨詢報告》。

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